发明名称 método para a remoção de materiais em partìculas de submicron a partir de água clorada pela adição seqüêncial de um polìmero catiÈnico seguido pela adição de um polìmero aniÈnico
摘要 MéTODO PARA A REMOçãO DE MATERIAIS EM PARTìCULAS DE SUBMICRON A PARTIR DE áGUA CLORADA PELA ADIçãO SEQüENCIAL DE UM POLìMERO CATIÈNICO SEGUIDO PELA ADIçãO DE UM POLIMERO ANIÈNICO. Um método para remover materiais em partículas coloidais, de submicron, como hidrocarbonetos, a partir da água. O método incluí adicionar primeiramente um polímero catiónico solúvel como quitosana, um sal, ou solução de quitosana à água contendo os materiais em partículas de submicron e um agente de halogenação, seguida por adição de um polímero aniânico, solúvel ou sal aniónico à água. Os flocos resultantes são filtrados para remover os materiais em partículas de submicron.
申请公布号 BRPI0608211(A2) 申请公布日期 2009.12.01
申请号 BR2006PI08211 申请日期 2006.02.15
申请人 HALOSOURCE, INC. 发明人 EVERETT J. NICHOLS;JEFFREY F. WILLIAMS;JAMES R. SCOTT;CHRISTINE M. PALCZEWSKI
分类号 C02F1/56 主分类号 C02F1/56
代理机构 代理人
主权项
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