| 摘要 |
<p>Implante espinal (70, 70a-c; 80, 80a-c; 90, 90a-c; 100; 114) que comprende un material que tiene una primera posición en forma de una primera configuración expandida y una primera configuración curvada, y una segunda posición en forma de una segunda configuración que tiene una dimensión de sección transversal menor que en la primera configuración expandida, y una segunda configuración de aplicación que tiene una configuración más lineal que en la primera configuración curvada, adoptando el implante la segunda posición durante la aplicación en el espacio discal y adoptando la primera posición al producirse la colocación dentro del espacio discal, siendo movible el implante, una vez implantado, en respuesta a una carga aplicada sobre el implante por los cuerpos vertebrales, caracterizado porque el implante comprende un material con memoria de forma, siendo la primera posición una posición memorizada, y porque el implante tiene una sección transversal en forma de C en la primera configuración expandida, y porque la segunda configuración es una configuración radialmente comprimida con respecto a la primera configuración expandida, y porque el implante es movible hacia la segunda configuración radialmente comprimida en respuesta a la carga.</p> |
