| 发明名称 |
使用于微影术之先进照明系统 |
| 摘要 |
一种用以微影术的系统，包含：一照明源；一照明光学系统，自一目标侧按顺序地包括：(a)一第一绕射光学元件，其自该照明源接收照明；(b)一可变焦透镜；(c)一第二绕射光学元件；(d)一聚光透镜；(e)一中继透镜；(f)一标线片；及一投影光学系统，其将该标线片成像至一基板上，其中该用于微影术的系统提供一可变焦距的数值孔径。 |
| 申请公布号 |
TWI317855 |
申请公布日期 |
2009.12.01 |
| 申请号 |
TW092115719 |
申请日期 |
2003.06.10 |
| 申请人 |
ＡＳＭＬ控股公司 |
发明人 |
马克 欧斯寇斯基;雷夫 利兹科夫;史考特 柯斯顿;詹姆士 泰沙可英斯;瓦特 奥格斯汀 |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
一种用于微影术的系统，包含：一照明源；一照明光学系统，自一目标侧按顺序地包括：(a)一第一绕射光学元件，其自该照明源接收照明；(b)一可变焦透镜；(c)一第二绕射光学元件；(d)一聚光透镜；(e)一中继透镜；(f)一标线片；及一投影光学系统，其将该标线片成像至一基板上，其中该用于微影术的系统提供一可变焦距的数值孔径。 |
| 地址 |
荷兰 |
