| 主权项 |
1.一种仅含彩色滤光片之固态影像装置的制造方法,包括:提供一基底,该基底中具有一感测区,该基底上具有一电晶体,用以控制该感测区;于该电晶体上覆盖一介电层;于该介电层上形成一彩色滤光片;以及于该彩色滤光片上形成一平坦且高透光性材质层,该平坦且高透光性材质层的折射率接近该彩色滤光片的折射率。2.如申请专利范围第1项所述之仅含彩色滤光片之固态影像装置的制造方法,其中该平坦且高透光性材质层的折射率接近1.6至1.65左右。3.如申请专利范围第1项所述之仅含彩色滤光片之固态影像装置的制造方法,其中该平坦且高透光性材质层包括旋涂式玻璃层。4.如申请专利范围第1项所述之仅含彩色滤光片之固态影像装置的制造方法,其中在形成该彩色滤光片之前,更包括将该介电层平坦化。5.如申请专利范围第1项所述之仅含彩色滤光片之固态影像装置的制造方法,其中该介电层的材质包括氧化矽。6.如申请专利范围第1项所述之仅含彩色滤光片之固态影像装置的制造方法,其中于该彩色滤光片上形成该平坦且高透光性材质层后,更包括:进行一封装切割制程;以及进行一清洗处理步骤。7.一种CMOS影像感测器的制造方法,包括:提供一基底,该基底中具有一感测区,该基底上具有一电晶体,用以控制该感测区;于该电晶体上覆盖一介电层;于该介电层上形成一彩色滤光片;以及于该彩色滤光片上形成一平坦且高透光性材质层,该平坦且高透光性材质层的折射率接近该彩色滤光片的折射率。8.一种CCD影像感测器的制造方法,包括:提供一基底,该基底中具有一感测区,该基底上具有一电晶体,用以控制该感测区;于该电晶体上覆盖一介电层;于该介电层上形成一彩色滤光片;以及于该彩色滤光片上形成一平坦且高透光性材质层,该平坦且高透光性材质层的折射率接近该彩色滤光片的折射率。图式简单说明:第1图系绘示本发明一较佳实施例之固态影像装置的剖面图。第2图系绘示本发明另一较佳实施例之固态影像装置的剖面图。 |
