基板处理装置及基板处理方法

摘要

在紫外线照射单元(UV)中，于灯室66内设有供以分别监视复数(n)个紫外线灯64(1)～64(n)的发光状态之同数的光感测器72(1)～72(n)。在邻接于灯室66下方的洗净处理室68内设有供以载置支撑基板G之可水平移动及昇降可能的承载台76。当复数(n)个的紫外线灯64(1)～64(n)，例如灯64(1)形成发光不良时，会停止该异常灯64(1)的使用。然后，对承载台76上的基G，以处于正常状态所剩余的紫外线灯64(2)～64(n)的紫外线照射量不会低于能够保证处理品质之预定下限值以下的方式来将紫外线照射处理的扫描速度(Y方向的承载台移动速度)修正成只比全体灯正常时的基准速度还要慢预定比例的速度。

主权项

1.一种基板处理装置,是属于一种供以将紫外线照射于被处理基板而来进行预定的处理之基板处理装置,其特征是具有:一支撑机构;该支撑机构是供以支撑上述被处理基板;及一紫外线照射机构;该紫外线照射机构是具备复数个接受电力的供给而来发射紫外线的灯,且将由上述灯所发射出的紫外线照射于上述被处理基板;及一灯监视机构;该灯监视机构是供以个别监视上述复数个灯的各发光状态;及一控制机构;该控制机构是供以根据来自上述灯监视机构的监视资讯来控制上述紫外线照射处理的预定参数。2.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中具有一驱动机构,该驱动机构是供以使上述支撑机构及上述灯的其中一方或双方移动于预定方向,而使来自上述紫外线照射机构的紫外线能够扫描被支撑于上述支撑机构上的上述被处理基板的被处理面。3.如申请专利范围第2项之基板处理装置,其中上述控制机构具有扫描速度控制机能,该扫描速度控制机能是根据来自上述灯监视机构的监视资讯来可变控制上述扫描的速度。4.如申请专利范围第3项之基板处理装置,其中上述控制机构是在其中之一上述灯的发光状态异常的监视资讯由上述灯监视机构所测出时,会以能够中止该异常灯之方式来控制上述紫外线照射机构,同时根据该上述扫描速度控制机能来设定成:使上述扫描速度形成只比预定的基准値慢预定比例的値。5.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述控制机构具有紫外线照射时间控制机能,该紫外线照射时间控制机能是根据来自上述灯监视机构的监视资讯来可变控制上述紫外线的照射时间。6.如申请专利范围第5项之基板处理装置,其中上述控制机构是在其中之一上述灯的发光状态异常的监视资讯由上述灯监视机构所测出时,会以能够中止该异常灯之方式来控制上述紫外线照射机构,同时根据该上述紫外线照射时间控制机能来设定成:使该上述紫外线照射时间形成只比预定的基准値长预定比例的値。7.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述控制机构具有灯亮度控制机能,该亮度控制机能是根据来自上述灯监视手段的监视资讯来个别控制上述灯的亮度。8.如申请专利范围第7项之基板处理装置,其中上述控制机构是在其中之一上述灯的发光状态异常的监视资讯由上述灯监视机构所测出时,会以能够中止该异常灯之方式来控制上述紫外线照射机构,同时根据该上述灯亮度控制机能来设定成:使正常状态之上述灯的亮度形成只比预定的基准値高预定比例的値。9.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述控制机构具有投入电力控制机能,该投入电路控制机能是根据来自上述灯监视机构的监视资讯来个别对上述灯控制投入电力。10.如申请专利范围第9项之基板处理装置,其中上述控制机构是在其中之一上述灯的发光状态异常的监视资讯由上述灯监视机构所测出时,会以能够中止该异常灯之方式来控制上述紫外线照射机构,同时根据该上述投入电力控制机能来设定成:使正常状态之投入上述灯的电力形成只比预定的基准値高预定比例的値。11.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中以上述紫外线照射机构的上述复数个灯中的一部份作为预备灯来保持于非点灯使用状态,其他其中之一上述灯的发光状态为异常的监视资讯由上述监视机构所测出时,上述控制机构会取代该异常灯,而以能够点灯使用上述预备灯之方式来控制上述紫外线照射机构。12.一种基板处理装置,是属于一种供以将紫外线照射于被处理基板而来进行预定的处理之基板处理装置,其特征是具有:一支撑机构;该支撑机构是供以支撑上述被处理基板;及一紫外线照射机构;该紫外线照射机构是具备接受电力的供给而来发射紫外线的灯,且将由上述灯所发射出的紫外线照射于上述被处理基板;及一灯监视机构;该灯监视机构是供以个别监视上述灯的发光状态;及一控制机构;该控制机构是供以根据来自上述灯监视机构的监视资讯来控制上述紫外线照射处理的预定参数。13.一种基板处理方法,是属于一种供以由复数个灯来将紫外线照射于被处理基板而来进行预定的处理之基板处理方法,其特征是具有:个别监视上述复数个灯的发光状态之过程;及根据上述监视过程的监视资讯来控制紫外线照射处理的预定参数之过程。14.一种基板处理方法,是属于一种供以由复数个灯来将紫外线照射于被处理基板而来进行预定的处理之基板处理方法,其特征是具有:个别监视上述复数个灯的发光状态之过程;及在上述监视的过程中,任何上述灯的发光状态被确认出为异常时,控制紫外线照射处理的预定参数,使能够停止该异常灯的使用,而藉由残余的灯来进行正常照射之过程。图式简单说明:第1图是表示本发明的基板处理装置所适用可能的涂布显像处理系统的构成的平面图。第2图是表示实施形态的涂布显像处理系统的处理桯序流程图。第3图是表示实施形态的紫外线照射单元的构成立体图。第4图是表示实施形态的紫外线照射单元的主要控制系统的构成方块图。第5图是表示实施形态的紫外线照射单元的灯电源部及灯监视部的一构成例图。第6图是表示实施形态的紫外线照射单元的主要动作程序的流程图。第7图是表示实施形态的紫外线照射单元的参数更改处理的详细程序流程图。