能量光束曝光方法及曝光装置

摘要

本发明系提供一种能量光束曝光方法及曝光装置之相关技术，其系使用在XY方向其光束模糊量为相异之CP方式之曝光装置，而能高精密度地将图案予以转印至试料上。采用XY方向之电子光束之模糊量(S2)之差异之形状修正而作成CP孔径光罩(S9)，并使用该CP孔径光罩而将图案进行CP曝光于试料上。