发明名称 连续地制造高分子电解质膜的方法及其制造装置
摘要 本发明系提供一种连续地制造高分子电解质膜的方法及其制造装置,系于多孔性基材至少一面上涂布高分子电解质的溶液,在多孔性基材施加下式(A)0.01≦F≦10(A)范围的张力F(kg/cm),层合该被涂布的多孔性基材以及支持材所构成。根据本发明,可连续地制造防止皱纹等产生外观优异的高分子电解质膜。
申请公布号 TW200423465 申请公布日期 2004.11.01
申请号 TW093108154 申请日期 2004.03.25
申请人 住友化学工业股份有限公司 发明人 野殿光纪
分类号 H01M8/02 主分类号 H01M8/02
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本