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发明名称
连续地制造高分子电解质膜的方法及其制造装置
摘要
本发明系提供一种连续地制造高分子电解质膜的方法及其制造装置,系于多孔性基材至少一面上涂布高分子电解质的溶液,在多孔性基材施加下式(A)0.01≦F≦10(A)范围的张力F(kg/cm),层合该被涂布的多孔性基材以及支持材所构成。根据本发明,可连续地制造防止皱纹等产生外观优异的高分子电解质膜。
申请公布号
TW200423465
申请公布日期
2004.11.01
申请号
TW093108154
申请日期
2004.03.25
申请人
住友化学工业股份有限公司
发明人
野殿光纪
分类号
H01M8/02
主分类号
H01M8/02
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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