Verfahren zur Herstellung einer Siliziumoberfläche mit pyramidaler Textur

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Siliziumoberfläche mit pyramidaler Textur, bei dem ein die Siliziumoberfläche aufweisender Silizium-Wafer in eine Ätzlösung getaucht wird. Zur Erzeugung einer möglichst homogenen pyramidalen Textur wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass die Siliziumoberfläche vor dem Inkontaktbringen mit der Ätzlösung mit Ozon behandelt wird.