静电吸附加热玻璃基板承载平台

摘要

本创作揭露一种静电吸附加热玻璃基板承载平台，用以对玻璃基板进行电浆反应沉积制程。电浆反应沈积装置包含腔体以及承载平台。承载平台设置于腔体内。承载平台包含加热模组以及吸附模组。加热模组用以提供热能，并且吸附模组设置于加热模组上。吸附模组包含电路板以及绝缘薄膜。绝缘薄膜形成于电路板上，用以供玻璃基板放置。其中当玻璃基板放置于绝缘薄膜上时，电路板系透过该绝缘薄膜对玻璃基板产生静电吸附效应，进而使得玻璃基板吸附于绝缘薄膜上，加热模组随即将热能经由吸附模组传导至玻璃基板。

主权项

一种静电吸附加热玻璃基板承载平台，用以对一玻璃基板进行一电浆反应沉积制程，该静电吸附加热玻璃基板承载平台包含：一腔体；以及一承载平台，设置于该腔体内，该承载平台包含：一加热模组，用以提供一热能；以及一吸附模组，设置于该加热模组上，该吸附模组包含：一电路板；以及一绝缘薄膜，形成于该电路板上；其中当该玻璃基板放置于该绝缘薄膜上时，该电路板系透过该绝缘薄膜对该玻璃基板产生一静电吸附效应，进而使得该玻璃基板吸附于该绝缘薄膜上，该加热模组随即将该热能经由该吸附模组传导至该玻璃基板。