| 发明名称 |
Reinigungszusammensetzung für Halbleitersubstrate |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE602008000181(D1) |
申请公布日期 |
2009.11.19 |
| 申请号 |
DE200860000181T |
申请日期 |
2008.01.04 |
| 申请人 |
AIR PRODUCTS AND CHEMICALS INC. |
发明人 |
WU, AIPING |
| 分类号 |
C11D7/26;C11D7/08;C11D7/10;C11D7/28;C11D7/50;C11D11/00 |
主分类号 |
C11D7/26 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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