发明名称 半导体紫外线超声波联合水处理设备
摘要 一种半导体紫外线超声波联合水处理设备,由水槽、超声波振板和LED紫外线发光板组成,水槽从前至后由收口段、喉道段和扩口段依次连接构成;所述收口段的槽底为水平平面,两槽壁之间的间距由前至后逐渐缩小,且收口段水平方向截面为梯形;所述喉道段的槽底为从前至后下斜的平面,且喉道段的水平方向截面为矩形;所述扩口段的槽底为从前至后上斜的平面,两槽壁之间的间距由前至后逐渐扩大,且扩口段的水平方向截面为梯形。本发明运用巴歇尔槽设计原理,然后在其上安装超声波振板和LED紫外线发光板。该设备操作简单,抑菌消毒速度快,有机物降解明显,自动化控制程度高优点。
申请公布号 CN101580289A 申请公布日期 2009.11.18
申请号 CN200910032778.X 申请日期 2009.06.08
申请人 钟旭东 发明人 钟旭东
分类号 C02F1/32(2006.01)I;C02F1/36(2006.01)I 主分类号 C02F1/32(2006.01)I
代理机构 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人 马明渡
主权项 1、一种半导体紫外线超声波联合水处理设备,其特征在于:由水槽、超声波振板和LED紫外线发光板组成;所述水槽两端敞口,其前端敞口为水流进口,后端敞口为水流出口,水槽从前至后由收口段、喉道段和扩口段依次连接构成;所述收口段的槽底为水平平面,两槽壁之间的间距由前至后逐渐缩小,且收口段水平方向截面为梯形;所述喉道段的槽底为从前至后下斜的平面,且喉道段的水平方向截面为矩形;所述扩口段的槽底为从前至后上斜的平面,两槽壁之间的间距由前至后逐渐扩大,且扩口段的水平方向截面为梯形;所述超声波振板由一振动板和用于驱动该振动板振动的若干个超声波换能器构成;所述LED紫外线发光板由一基板上设若干个紫外线二极管构成;所述超声波振板和LED紫外线发光板两者中,一者位于所述收口段的槽底或槽壁上,另一者位于所述喉道段的槽底或槽壁上。
地址 215000江苏省苏州市高新区运新路15号