| 发明名称 | 用于增加X射线管中的辐射传热的装置及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于增加X射线管中的辐射传热的装置及其制造方法。一种用于产生X射线(14)的靶组件(56)，包括靶基体(57)以及施加到靶基体(57)的一部分的辐射涂层(67，81，85，89，92，94，97，98)，辐射涂层(67，81，85，89，92，94，97，98)包含碳化物和碳氮化物中的一种或多种。 | ||
| 申请公布号 | CN101582365A | 申请公布日期 | 2009.11.18 |
| 申请号 | CN200910141789.1 | 申请日期 | 2009.05.15 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | D·钟;D·M·格雷;M·赫伯特;D·M·利普金;T·拉伯;G·A·施泰恩拉格;T·C·蒂尔尼 |
| 分类号 | H01J35/08(2006.01)I | 主分类号 | H01J35/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 曾祥夌;杨松龄 |
| 主权项 | 1.一种用于产生x射线(14)的靶组件(56)，包括：靶基体(57)；以及施加到所述靶基体(57)的一部分的辐射涂层(67，81，85，89，92，94，97，98)，所述辐射涂层(67，81，85，89，92，94，97，98)包含碳化物和碳氮化物中之一或多种。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||