发明名称 |
致冷剂容器的被动过压和欠压保护 |
摘要 |
在包含一安装于致冷剂容器(12)内的超导磁体(10)的MRI成像所用磁体系统中,提供了用于控制致冷剂气体从所述致冷剂容器流出的设备。所述设备包括:一个受控阀(42),该受控阀将所述致冷剂容器的内部连接到气体排出路径;以及一个控制器(30),该控制器经布置以控制所述阀。所述阀经布置使得所述致冷剂容器中超过所述气体排出路径中气体压力的气体压力作用于所述阀上,以便打开所述阀,并允许排放致冷剂气体。所述阀还经布置使得所述致冷剂容器中低于所述气体排出路径中气体压力的气体压力作用于所述阀上,以迫使其关闭,由此限制气体流动到所述致冷剂容器中。 |
申请公布号 |
CN101581524A |
申请公布日期 |
2009.11.18 |
申请号 |
CN200910135402.1 |
申请日期 |
2009.04.23 |
申请人 |
西门子磁体技术有限公司 |
发明人 |
尼古拉斯·曼 |
分类号 |
F25D3/10(2006.01)I;F25D29/00(2006.01)I;G01R33/38(2006.01)I;A61B5/055(2006.01)I |
主分类号 |
F25D3/10(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
杨 梧 |
主权项 |
1.一种用于控制致冷剂气体从一致冷剂容器流出的设备(42、30、32),包括:一个受控阀(42),其将所述致冷剂容器的内部连接到一条气体排出路径;以及一个控制器(30),其经布置以从至少一个传感器(32、34)接收数据,并相应地控制所述阀,其特征在于,所述阀经布置使得所述致冷剂容器中超过所述气体排出路径中气体压力的气体压力作用于所述阀上,以打开所述阀并允许排放致冷剂气体,以及经布置使得所述致冷剂容器中低于所述气体排出路径中气体压力的气体压力作用于所述阀上,以迫使其关闭,由此限制气体流动到所述致冷剂容器中。 |
地址 |
英国牛津郡 |