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发明名称 Pellicle
摘要 A pellicle used in semiconductor lithography is provided and comprises a pellicle frame made of aluminum or an aluminum alloy. The surface of the frame is free of pigment.
申请公布号 EP2120092(A1) 申请公布日期 2009.11.18
申请号 EP20090160030 申请日期 2009.05.12
申请人 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 发明人 SHIRASAKI, TORU
分类号 G03F1/64 主分类号 G03F1/64
代理机构 代理人
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