发明名称 |
流体处理结构、光刻设备和器件制造方法 |
摘要 |
本发明公开一种流体处理结构、一种光刻设备和一种器件制造方法,其中实施测量以提高弯液面发生破裂的速度。测量包括流体处理结构中的多个流体抽取开口的形状和多个流体供给开口的形状和密度。 |
申请公布号 |
CN101581887A |
申请公布日期 |
2009.11.18 |
申请号 |
CN200910140581.8 |
申请日期 |
2009.05.08 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
D·J·M·狄莱克斯;D·M·H·菲利浦斯;C·J·G·范德顿根;K·斯蒂芬斯;A·J·范普登 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
王新华 |
主权项 |
1.一种用于光刻设备的流体处理结构,所述流体处理结构具有多个在平面图上以有角的形状配置的开口,所述流体处理结构构造成使得所述开口在使用时被取向朝向衬底和/或构建成支撑所述衬底的衬底台,其中a)所述有角的形状具有半径为负的边;和/或b)所述有角的形状具有半径在0.05-4mm范围内的角。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |