一种高精度球高效研磨/抛光加工方法

摘要

一种高精度球高效研磨/抛光加工方法，实现该加工方法的加工设备中，由下研磨盘内盘外侧的锥面研磨面和下研磨盘外盘内侧的锥形研磨面构成V形槽结构，载荷加压装置通过上研磨盘作用于球坯，所述的V形槽结构和上研磨盘一起构成研磨球的三个加工接触点，所述上研磨盘、下研磨盘外盘和下研磨内盘具有相同的回转轴；在所述的上研磨盘、下研磨盘外盘和下研磨内盘中，其中两个盘的转轴分别由电机驱动；通过调整Ω_B和Ω_C的速度组合，使陶瓷球作“变相对方位”，使研磨轨迹均匀分布在球的表面上，实现对陶瓷球表面的均匀研磨。本发明既能实现较高的加工精度和加工效率，又具备加工装置结构简单、制造成本较低。

主权项

1、一种高精度球高效研磨/抛光加工方法，其特征在于：实现所述加工方法的加工设备中，由下研磨盘内盘外侧的锥面研磨面和下研磨盘外盘内侧的锥形研磨面构成V形槽结构，载荷加压装置通过上研磨盘作用于球坯，所述的V形槽结构和上研磨盘一起构成研磨球的三个加工接触点，所述上研磨盘、下研磨盘外盘和下研磨内盘具有相同的回转轴；在所述的上研磨盘、下研磨盘外盘和下研磨内盘中，其中两个盘的转轴分别由电机驱动；设定待加工的陶瓷球的三个加工接触点分别为A、B、C，三接触点到回转轴的距离分别为RA、RB、RC，转动的两个盘的转速分别为ΩB、ΩC，输入转速ΩB、ΩC之间的关系为：ΩB＝3ΩCsin(0.01πt)(rpm)通过调整ΩB和ΩC的速度组合，使陶瓷球作“变相对方位”，使研磨轨迹均匀分布在球的表面上，实现对陶瓷球表面的均匀研磨。