发明名称 聚合物多微孔体制造方法以及聚合物多微孔体及分离膜
摘要 本发明提供一种与现有的方法相比可以提高所得的多微孔体的各种特性的自由度的聚合物多微孔体的制造方法。其中,将包含3种以上的链段、1个以上的链段包含具有可形成离子键和/或氢键的第1官能团的单体单元、并且通过基于链段间的非相容性的相分离而形成包含各链段的区域相互独立且连续的共连续结构的嵌段共聚物与在聚合物链的末端以外具有与第1官能团之间形成离子键和/或氢键的第2官能团的聚合物进行混合,使所述1个以上的链段与聚合物在多点结合,同时,利用相分离,形成含有包含聚合物及与聚合物结合的链段的区域的共连续结构,减弱第1及第2官能团之间的键而从该区域中除去所述聚合物。
申请公布号 CN101583657A 申请公布日期 2009.11.18
申请号 CN200880002146.2 申请日期 2008.01.07
申请人 日东电工株式会社 发明人 小西贵久;新谷卓司;松下裕秀;高野敦志;浅利壮史
分类号 C08J9/26(2006.01)I;B01D71/26(2006.01)I;B01D71/28(2006.01)I;B01D71/44(2006.01)I;B01D71/80(2006.01)I 主分类号 C08J9/26(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人 王海川;穆德骏
主权项 1.一种聚合物多微孔体制造方法,其中,将嵌段共聚物(I)和聚合物(II)利用热熔融混合后使温度降低、或者在溶剂中混合后除去溶剂,其中,所述嵌段共聚物(I):包含3种以上具有相互不同的单体单元的链段,1个以上的所述链段包含具有可形成离子键和/或氢键的第1官能团的单体单元,并且通过基于所述链段间的非相容性的相分离而形成包含各所述链段的区域相互独立且连续的共连续结构;所述聚合物(II):在聚合物链的末端以外具有能够与第1官能团之间形成离子键和/或氢键的第2官能团,由此,利用第1与第2官能团之间产生的离子键和/或氢键使共聚物(I)中的所述1个以上的链段与聚合物(II)在多点结合,同时,利用所述相分离,形成具有所述共连续结构的聚合物体,所述共连续结构含有包含聚合物(II)及与聚合物(II)结合的所述链段的区域;通过减弱第1与第2官能团之间的离子键和/或氢键而从该区域中除去聚合物(II),由此在所述聚合物体中形成具有与该区域对应的形状的连续微孔。
地址 日本大阪