| 发明名称 | 无定形碳膜及其制备方法以及无定形碳膜涂敷的材料 | ||
| 摘要 | 一种无定形碳膜，其密度为2.8-3.3g/cm<sup>3</sup>。优选地，所述膜具有1×10<sup>18</sup>-1×10<sup>21</sup>自旋/cm<sup>3</sup>的自旋密度、按原子百分数表示为至少99.5％的碳浓度、按原子百分数表示为不超过0.5％的氢浓度、按原子百分数表示为不超过0.5％的惰性气体元素浓度以及3000-7000的努氏硬度。由母材以及从B、Al、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中选择的至少一种物质形成厚度至少0.5nm并且不超过10nm的混合层。所述无定形碳膜沉积在混合层或者在混合层上形成的金属中间层上，从而增加粘附性。该无定形碳膜是用固体碳利用溅射法、阴极弧离子镀法或激光烧蚀法形成的。 | ||
| 申请公布号 | CN101580928A | 申请公布日期 | 2009.11.18 |
| 申请号 | CN200910203731.5 | 申请日期 | 2003.02.26 |
| 申请人 | 住友电气工业株式会社 | 发明人 | 织田一彦;内海庆春;大原久典 |
| 分类号 | C23C14/06(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/28(2006.01)I;C23C14/32(2006.01)I;C01B31/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁业平;张天舒 |
| 主权项 | 1.一种无定形碳膜，所述膜的密度等于或大于2.8g/cm3并且等于或小于3.3g/cm3。 | ||
| 地址 | 日本大阪府大阪市 | ||