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发明名称
金属氧化物薄膜场效电晶体装置及其形成的方法
摘要
本发明系有关于使用热蒸镀反应方式以沉积金属氧化物薄膜,作为电晶体结构之半导体层与源电极/汲电极。而金属氧化物薄膜之电阻率随着不同的厚度与退火温度有很大的差异。故且配合不同的条件,使用金属氧化物薄膜可同时达成半导体层与源电极/汲电极。
申请公布号
TW200926416
申请公布日期
2009.06.16
申请号
TW097103189
申请日期
2008.01.29
申请人
中央研究院
发明人
朱治伟;库奇达
分类号
H01L29/786(2006.01);H01L21/336(2006.01)
主分类号
H01L29/786(2006.01)
代理机构
代理人
黄孝惇
主权项
地址
台北市南港区研究院路2段128号
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