发明名称 半导体清洁装置及光罩清洁装置与方法
摘要 本发明主要提供一种半导体清洁装置及光罩清洁装置与方法,特别是一种用于半导体制程中自半导体及光罩表面去除污染物质的装置。该清洁装置包含:一喷嘴用以传送流体至该半导体及光罩;一进流体装置与该喷嘴结合,该进流体装置包含复数个进流体口,该些进流体口系交错设置,藉此将流体从该些进流体口输入,经过该进流体装置从该喷嘴喷出,送至该半导体及光罩上以清洁该半导体及光罩表面。
申请公布号 TW200934590 申请公布日期 2009.08.16
申请号 TW097104425 申请日期 2008.02.05
申请人 家登精密工业股份有限公司 发明人 潘勇顺
分类号 B08B3/00(2006.01);H01L21/30(2006.01) 主分类号 B08B3/00(2006.01)
代理机构 代理人 陈培道
主权项
地址 台北县树林市八德街428号