带有含孔径的不透明铬涂层的光学元件及其制造方法

摘要

基板(310)包括位于基板(310)表面上的不透明的铬涂层(320)，对该铬涂层进行干蚀以形成孔径(340)，其中孔径中的铬低于可检测的极限。一种用于在基板(310)上形成不透明的铬涂层(320)的方法包括：在基板上沉积初始厚度的不透明的铬涂层，沉积的同时没有使用离子辅助或使用了检测不到的离子辅助；以及在使用或不使用离子辅助的情况下沉积该不透明的铬涂层的其余部分。在一个实施方式中，本发明涉及一种有孔的光学元件(300)，它具有透光的基板(310)以及位于该基板上用于定义孔径(340)的不透明的铬涂层(320)。各种材料构成的三层或四层不透明的涂层被设置，其中包括三层的铬/氧化铬/铬涂层。

主权项

1.一种用于形成窗口/光学元件的方法，所述窗口/光学元件包括具有顶面和底面的透光基板、位于所述两个面中至少一个面上的不透明的涂层、以及在所述涂层内的孔径，所述孔径用于允许光进入并穿过所述基板，所述方法包括：在所述基板的两个面中的一个或两个面之上沉积具有选定厚度的第一铬层，所述沉积是在没有离子辅助或离子辅助检测不到的情况下进行的；在所述铬层上沉积具有选定厚度的第二氧化铬层；在所述氧化铬层上沉积具有选定厚度的第三铬层；在所述第三铬层上设置负型光刻胶材料；通过使用用于覆盖孔径区域的掩模，并且使所述掩模过的光刻胶曝光由此使在未被掩模覆盖的区域中未掩模的光刻胶材料聚合，从而使所述光刻胶图形化；剥去未聚合的光刻胶并露出剥离的未聚合的光刻胶下面的铬/氧化铬/铬层；蚀刻以除去所述基底上露出的所述铬/氧化铬/铬层，从而形成孔径；剥去聚合的光刻胶；以及冲洗并清洗，由此提供了这样一种透光基板，它具有位于所述两个面中的一个或两个面上的不透明的铬涂层以及在所述涂层内的孔径，以允许光线进入并穿过所述基板；所述的蚀刻产生用于定义所述孔径的圆周的铬层边缘倾斜了一个小于15°的锐角的光学元件。