发明名称 |
用于双重曝光的图案分解方法 |
摘要 |
本发明公开了一种图案分解方法,该图案分解方法能够利用双重曝光来达成具有复杂布局的图案。该图案分解方法用以将目标图案分解成第一曝光用的图案及第二曝光用的图案,其中该目标图案包括具有重复的线和间距的第一图案及位于该第一图案之间且具有既定尺寸的第二图案。该图案分解方法包括:将该第一图案分解成第一曝光用的图案以及第二曝光用的图案;将该第二图案分解成第一曝光用的图案以及第二曝光用的图案;以及将该第一图案的第一曝光用的图案或第二曝光用的图案分别与该第二图案的第一曝光用的图案或第二曝光用的图案合并。 |
申请公布号 |
CN100561358C |
申请公布日期 |
2009.11.18 |
申请号 |
CN200710136910.2 |
申请日期 |
2007.07.23 |
申请人 |
海力士半导体有限公司 |
发明人 |
崔在升 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G03F1/14(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波 |
主权项 |
1.一种双重曝光图案分解方法,用以将目标图案分解成第一曝光用的图案及第二曝光用的图案,其中所述目标图案包括具有重复的线和间距的第一图案及位于所述第一图案之间且具有既定尺寸的第二图案,所述方法包括:将所述第一图案分解成第一曝光用的图案以及第二曝光用的图案;将所述第二图案分解成第一曝光用的图案以及第二曝光用的图案;以及将所述第一图案的第一曝光用的图案或第二曝光用的图案分别与所述第二图案的第一曝光用的图案或第二曝光用的图案合并。 |
地址 |
韩国京畿道 |