具有改善抗蚀性能的氟化光刻胶材料

摘要

本发明公开了一种包含一种聚合物的光刻胶组合物，该聚合物包括至少一种具有下列结构的单体：其中，R₁选自氢(H)、具有1～20个碳原子的线形、支化或环状烷基、半氟化或全氟化的具有1～20个碳原子的线形、支化或环状烷基、以及CN；R₂为具有5个或更多个碳原子的脂环基团；X为选自亚甲基、醚、酯、酰胺和碳酸酯的连接部分；R₃为具有1个或多个碳原子的线形或支化亚烷基或者半氟化或全氟化的线形或支化亚烷基；R₄选自氢(H)、甲基(CH₃)、三氟甲基(CF₃)、二氟甲基(CHF₂)、氟代甲基(CH₂F)、以及半氟化或全氟化的脂族基团；R₅选自三氟甲基(CF₃)、二氟甲基(CHF₂)、氟代甲基(CH₂F)、以及半氟化或全氟化的取代或未取代的脂族基团；n为1或更大的整数；OR₁₂为OH或者选自叔烷基碳酸酯、叔烷基酯、叔烷基醚、缩醛和缩酮的至少一种酸不稳定基团。本发明还公开了一种在衬底上形成图案的方法，其中该方法包括：将上述光刻胶组合物施于衬底上以形成膜；将该膜曝露在成像辐射源下形成图案；和对该膜区域进行显影以形成图案化衬底。

主权项

1.一种包含聚合物的光刻胶组合物，所述聚合物含有至少一种选自下列的单体：