| 发明名称 |
RET for optical maskless lithography |
| 摘要 |
The present invention relates to Optical Maskless Lithography (OML). In particular, it relates to providing OML with a recognizable relationship to mask and phase-shift mask techniques.
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| 申请公布号 |
US7618751(B2) |
申请公布日期 |
2009.11.17 |
| 申请号 |
US20050066828 |
申请日期 |
2005.02.25 |
| 申请人 |
MICRONIC LASER SYSTEMS AB |
发明人 |
SANDSTROM TORBJORN;MARTINSSON HANS |
| 分类号 |
B41J2/47;G02B26/00;G02B26/12;G03F1/00;G03F7/20 |
主分类号 |
B41J2/47 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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