W-NI SPUTTER TARGET

摘要

본 발명은 W-Ni 스퍼터링 타깃을 제조하기 위한 방법과 이의 용도에 관한 것이다. 본 발명은 또한 45 내지 75 중량%의 W, 잔량의 Ni과 통상적인 불순물을 함유하는 스퍼터링 타깃으로서, Ni(W)상, W상을 함유하고 금속간상을 전혀 함유하지 않거나 10% 미만으로 함유하는 스퍼터링 타깃에 관한 것이다.