一种光刻机杂散光的自动测量方法

摘要

一种光刻机杂散光的自动测量方法，包括如下步骤：将多个镜像焦面检测对准标记曝光到硅片上；对部分已曝光的所述标记引入设定剂量的杂散光；对其他的所述标记引入待测剂量的杂散光；硅片显影后，利用对准系统读取所述标记的对准位置；标定杂散光与对准位置的对应关系；计算待测光刻机系统的杂散光。本发明不但能缩短对杂散光的测试时间，而且也减小测试误差。

主权项

1、一种光刻机杂散光自动测量的方法，其特征在于，包括，步骤1、将成像位置重心随杂散光的大小而改变的对准标记曝光到硅片不同位置上，形成n个曝光场；步骤2、对于所形成的n个曝光场内的所述对准标记，选取m个，对其以设定剂量的杂散光进行曝光；步骤3、对剩下的n-m个所述对准标记，对其以待测的杂散光进行曝光；步骤4、显影后，利用离轴对准系统测量所有所述对准标记的对准位置；步骤5、利用步骤2中曝光标记的测量结果，建立杂散光与所述对准标记对准位置的对应关系；步骤6、根据步骤3中曝光标记的测量结果，以及步骤5中得到的对应关系，求得系统杂散光。