发明名称 |
微影装置及位置测量方法 |
摘要 |
在微影装置中,由环境空间中之压力之精确测量来校正受环境空间中之压力变化影响的,利用物件位置测量系统之环境空间中之物件位置的测量。可提供一与环境空间有流体连接(fluid connection)之参考压力容积体,该流体连接具有预定流动特征。测量参考压力容积体中的压力与环境空间中的环境压力之间的压力差。将参考压力容积体中之绝对压力与该压力差相加,以确定环境空间中之压力变化。或者,在时间上积分该压力差以确定参考压力容积体中之压力变化,且将参考压力容积体中之压力的此变化与该压力差相加以确定环境空间中之压力变化。该流体连接亦可为一可打开并可关闭之阀。 |
申请公布号 |
TWI317052 |
申请公布日期 |
2009.11.11 |
申请号 |
TW094132858 |
申请日期 |
2005.09.22 |
申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
爱弥儿 裘芙 梅尔莲 尤森;贾克 尔德理安 鲁道夫 凡 因培;沃特 昂诺 裴瑞 |
分类号 |
G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
一种使用一物件位置测量系统测量一环境空间中之一物件之位置的方法,该环境空间与一参考压力容积体具有一流体连接,该流体连接包含一毛细管,该方法包含:(a)测量在该参考压力容积体中之压力与在该环境空间中之环境压力之间的压力差;(b)在一预定时间间隔上积分该压力差以用于确定该参考压力容积体中之一压力变化;(c)将在该预定时间间隔之一末端处的该压力差与基于在该预定时间间隔上经积分之该压力差之一值相加,及(d)基于该环境空间中之压力之该确定的变化而校正该物件位置测量系统之一位置测量。 |
地址 |
荷兰 |