发明名称 | 基板处理方法、控制程式、及电脑可读取之记忆媒体 | ||
摘要 | 本发明系提供一种基板处理方法,系具有以下之步骤:蚀刻处理形成于基板上的被蚀刻膜,而形成特定图案;将结束蚀刻处理之后所残存的物质可溶化于特定的液体而变性;而后,矽烷基化处理形成有图案的被蚀刻膜的表面;以及,然后供给特定的液体,而溶解除去已变性的物质。 | ||
申请公布号 | TWI317160 | 申请公布日期 | 2009.11.11 |
申请号 | TW095136418 | 申请日期 | 2006.09.29 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 藤井康;户岛孝之;折居武彦 |
分类号 | H01L21/768 | 主分类号 | H01L21/768 |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | 一种基板处理方法,系具有以下之步骤:蚀刻处理形成于基板上的被蚀刻膜,而形成特定图案;使结束前述蚀刻处理之后残存的物质变性为可溶化于特定的液体;而后,矽烷基化处理形成有图案的被蚀刻膜的表面;然后,供给前述特定的液体,溶解除去前述已变性的物质。 | ||
地址 | 日本 |