发明名称 |
连续式平面磁控溅射镀膜设备 |
摘要 |
本实用新型公开了一种连续式平面磁控溅射镀膜设备,具有顺序排列连接的进片室、前过渡室、镀膜室、后过渡室和出片室,进片室和前过渡室、前过渡室和镀膜室、镀膜室和后过渡室以及后过渡室和出片室之间分别设置有隔离阀门,进片室和出片室上分别管道连接有第一真空机组,前过渡室和后过渡室上分别管道连接有第二真空机组,镀膜室上管道连接有第三真空机组。本实用新型可按工艺要求,分别在玻璃上镀上增透介质层和导电层,同时选用的不同真空机组以满足镀膜过程中对真空度的不同要求,从而确保镀膜过程的一致性、连续性和可控性以及镀膜层的均匀,保证了触摸屏用导电玻璃的质量,满足了大批量生产的要求。 |
申请公布号 |
CN201343569Y |
申请公布日期 |
2009.11.11 |
申请号 |
CN200920037425.4 |
申请日期 |
2009.02.13 |
申请人 |
江苏津通先锋光电显示技术有限公司 |
发明人 |
冯新伟 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
常州市维益专利事务所 |
代理人 |
王凌霄 |
主权项 |
1.一种连续式平面磁控溅射镀膜设备,其特征是:具有顺序排列连接的进片室(1)、前过渡室(2)、镀膜室(3)、后过渡室(4)和出片室(5),进片室(1)和前过渡室(2)、前过渡室(2)和镀膜室(3)、镀膜室(3)和后过渡室(4)以及后过渡室(4)和出片室(5)之间分别设置有隔离阀门(6),进片室(1)和出片室(5)上分别管道连接有第一真空机组(7),前过渡室(2)和后过渡室(4)上分别管道连接有第二真空机组(8),镀膜室(3)上管道连接有第三真空机组(9)。 |
地址 |
213161江苏省常州市武进高新区西湖路8号津通工业园1B楼 |