发明名称 |
反射电极形成方法及液晶显示装置 |
摘要 |
提供了一种谋求减少制造工序数及制造成本的反射电极形成方法及应用该方法的液晶显示装置。将抗蚀剂膜涂敷在反射电极膜3上,通过对该抗蚀剂膜进行曝光及显影,使有多个孔4a的抗蚀剂膜的保留部4保留下来,将该保留部4作为掩模,对反射电极膜3进行干法刻蚀。将该保留部4作为掩模,通过对反射电极膜3进行干法刻蚀,在各像素上形成有多个孔30a的反射电极30。在该孔30a的周围设置有厚度连续变化的厚度变化区域30b,所以能使反射电极30具有所希望的反射特性。 |
申请公布号 |
CN100559244C |
申请公布日期 |
2009.11.11 |
申请号 |
CN02819015.7 |
申请日期 |
2002.09.27 |
申请人 |
统宝香港控股有限公司 |
发明人 |
浜胁嘉彦 |
分类号 |
G02F1/1343(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1343(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
刘宗杰;叶恺东 |
主权项 |
1.一种反射电极形成方法,它是在基板上形成多个反射电极的反射电极形成方法,其特征在于:包括在上述基板上形成有上述反射电极的材料的第一膜的工序;以及使上述第一膜的对应于上述反射电极的部分保留下来而对上述第一膜进行构图的工序,上述进行构图的工序在上述第一膜的对应于上述反射电极的部分,形成上述第一膜的厚度连续变化的厚度变化区域,其中,上述进行构图的工序包括:在上述第一膜上形成感光性膜的第一工序;通过对上述感光性膜进行曝光及显影,使上述感光性膜按照对应于上述多个反射电极的图形的形状进行构图的第二工序;对上述进行了构图的感光性膜进行后烘焙的第三工序;以及将进行了上述后烘焙的感光性膜作为掩模,对上述第一膜进行干法刻蚀的第四工序。 |
地址 |
香港沙田香港科学园区科技大道东5号飞利浦大厦二楼 |