光罩资料修正方法、光罩之制造方法、电脑可读取之记录媒体、光学像的预测方法、抗蚀剂图案的形状预测方法及半导体装置之制造方法

摘要

本发明系提供一种考虑实际之曝光装置之特性的光罩资料之修正方法、光罩、光罩资料之修正程式。本发明系用于作成于光微影步骤中使用之光罩时的光罩资料之修正方法，基于使用曝光装置之包含照明亮度分布不均匀性的资讯之模拟，进行光罩资料之修正，该曝光装置系使用利用由上述修正结果获得之光罩资料而作成的光罩。

主权项

一种光罩资料之修正方法，其系于作成光微影制程中使用之光罩时使用之光罩资料之修正方法，且包含：基于使用包含曝光装置中之照明亮度分布不均匀性之资讯的模拟，进行光罩资料之修正，当上述光罩用于光微影制程时使用该曝光装置，上述光罩系使用由上述修正结果获得之光罩资料而作成。