发明名称 一种调焦调平传感装置的光学系统
摘要 本发明公开了一种调焦调平传感装置的光学系统,其包括沿光路传播方向依次设置的光源模块、照明模块、投影成像模块、探测成像模块以及探测器模块。本发明采用了反射系统,消除了宽带光的色差影响;采用了独特的阶梯反射镜使每个光斑点的像的中心处在处于理想位置的硅片的上表面上,减小了系统测量误差,提高了测量精度。
申请公布号 CN100559278C 申请公布日期 2009.11.11
申请号 CN200610119021.0 申请日期 2006.12.01
申请人 上海微电子装备有限公司 发明人 关俊;李小平;李志丹;田湍;金小兵
分类号 G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 代理人 王 洁
主权项 1.一种用于光刻机的调焦调平装置的光学系统,其特征在于:包括沿光路传播方向依次设置的光源模块、照明模块、投影成像模块、探测成像模块以及探测器模块,所述光源模块包括窄带光模块、宽带光模块、耦合镜(5)和传输光缆(9),且所述的窄带光模块和宽带光模块交替调制;所述窄带光模块依次包括窄带光光源(1)、耦合模块(4);所述宽带光模块依次包括宽带光光源(2)、具有滤波功能的聚光镜(3)、光源光束整形分系统以及斩波器(7);所述窄带光模块发出的光以及宽带光模块发出的光均被耦合镜(5)耦合到传输光缆(9)中;所述照明模块包括沿光路依次设置的积分棒(10)、整形分系统、光斑掩模(15)、转像系统和第一阶梯反射镜(19),所述投影成像模块依次包括第一远心成像分系统、波长分束器(24)以及设置在分束器(24)与该光刻机的投影物镜的下表面(26)之间的第一偏置平板(25);所述探测成像模块依次包括设置在合束器(29)与该投影物镜的下表面(26)之间的第二偏置平板(28)、合束器(29)、第二远心成像分系统和能量分束器(33);所述第一偏置平板(25)和第二偏置平板(28)、分束器(24)和合束器(29)、第一远心成像分系统和第二远心成像分系统分别以该投影物镜光轴为对称中心对称布置,所述探测器模块包括粗测模块和精测模块,所述粗测模块依次包括粗测掩模(43)和粗测位置敏感传感器(45);所述精测模块依次包括第二阶梯反射镜(38)、放大分系统、柱面镜(42)、柱面镜阵列(44)和精测位置敏感传感器(47)。
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