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发明名称 SOURCE/DRAIN STRESSOR AND METHOD THEREFOR
摘要
申请公布号 EP2115778(A1) 申请公布日期 2009.11.11
申请号 EP20080729512 申请日期 2008.02.11
申请人 FREESCALE SEMICONDUCTOR, INC. 发明人 ZHANG, DA;WINSTEAD, BRIAN A.
分类号 H01L29/78;H01L21/265;H01L21/336 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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