发明名称 具有渐变带隙的无定形膜通过电子回旋共振的膜沉积
摘要 描述了一种通过从等离子体沉积而在衬底(14)上形成无定形材料膜的方法。将衬底(14)放在罩壳中,通过管子(20)将膜前体气体引入罩壳内,并通过管子(22)从罩壳内抽出未反应的和离解的气体以便在其中提供低压力。以给定频率和功率水平的脉冲序列将微波能量引入罩壳内的气体中,从而通过分布式电子回旋共振(DECR)在其中产生等离子体并使材料从等离子体沉积至衬底上。在材料的沉积过程中改变所述频率和/或功率水平,以便使带隙在沉积材料的厚度上变化。
申请公布号 CN101578388A 申请公布日期 2009.11.11
申请号 CN200780040737.4 申请日期 2007.10.26
申请人 陶氏康宁公司;巴黎综合理工大学 发明人 P·罗卡艾卡巴罗卡斯;P·布尔金;D·戴纳卡;P·里波尔;P·狄斯坎普;T·科尔恩德米尔伦德尔
分类号 C23C16/24(2006.01)I;C23C16/511(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;H01L31/20(2006.01)I 主分类号 C23C16/24(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 李 帆
主权项 1.一种通过从等离子体沉积而在衬底上形成无定形材料膜的方法,该方法包括将衬底放在罩壳中,将膜前体气体以一定流量连续引入罩壳内,并从罩壳内抽出未反应的和离解的气体以便在罩壳内提供低压力,以及以给定频率和功率水平的脉冲序列将微波能量引入罩壳内的气体中,从而通过分布式电子回旋共振(DECR)在其中产生等离子体并使材料从等离子体沉积至衬底上,其中在材料的沉积过程中改变所述频率和/或功率水平,以便使带隙在沉积材料的厚度上变化。
地址 美国密执安
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