发明名称 高频处置装置
摘要 本发明提供一种高频处置装置。该高频处置装置具备:产生高频电流的高频发生单元;电极器,其与该高频发生单元电连接,前端具有对所述高频电流进行放电的施加电极,该施加电极的基端侧被第1绝缘材料覆盖;作为来自所述施加电极的所述高频电流的返回侧的插入部,其收纳该电极器并使该电极器可在预定方向上自由移动;输液单元,其通过该插入部将灌注液输送到所述施加电极附近;以及第2绝缘材料,其由能够自由变更覆盖范围的伸缩材料形成,针对从所述第1绝缘材料的前端露出的所述施加电极的根部部分,该第2绝缘材料从该第1绝缘材料沿着该施加电极、在预定范围内覆盖该施加电极的外表面,从而能够利用更小的功率在灌注液中进行组织的切除、气化、电凝等,而且可以缩短手术时间。
申请公布号 CN100558309C 申请公布日期 2009.11.11
申请号 CN200580033988.0 申请日期 2005.10.05
申请人 奥林巴斯株式会社 发明人 林田刚史;谷口一德;永山茂生;肘井一也
分类号 A61B18/12(2006.01)I;A61B18/14(2006.01)I 主分类号 A61B18/12(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 代理人 黄纶伟
主权项 1.一种高频处置装置,其特征在于,该高频处置装置具备:产生高频电流的高频发生单元;电极器,其与该高频发生单元电连接,前端具有对所述高频电流进行放电的施加电极,该施加电极的基端侧被第1绝缘材料覆盖;作为来自所述施加电极的所述高频电流的返回侧的插入部,其收纳该电极器并使该电极器能够在预定的方向上自由移动;输液单元,其通过该插入部将灌注液输送到所述施加电极附近;以及第2绝缘材料,其由能够自由变更其覆盖范围的伸缩材料形成,针对从所述第1绝缘材料的前端露出的所述施加电极的根部部分,该第2绝缘材料从该第1绝缘材料沿着该施加电极、在预定范围内覆盖该施加电极的外表面。
地址 日本东京