发明名称 |
高频处置装置 |
摘要 |
本发明提供一种高频处置装置。该高频处置装置具备:产生高频电流的高频发生单元;电极器,其与该高频发生单元电连接,前端具有对所述高频电流进行放电的施加电极,该施加电极的基端侧被第1绝缘材料覆盖;作为来自所述施加电极的所述高频电流的返回侧的插入部,其收纳该电极器并使该电极器可在预定方向上自由移动;输液单元,其通过该插入部将灌注液输送到所述施加电极附近;以及第2绝缘材料,其由能够自由变更覆盖范围的伸缩材料形成,针对从所述第1绝缘材料的前端露出的所述施加电极的根部部分,该第2绝缘材料从该第1绝缘材料沿着该施加电极、在预定范围内覆盖该施加电极的外表面,从而能够利用更小的功率在灌注液中进行组织的切除、气化、电凝等,而且可以缩短手术时间。 |
申请公布号 |
CN100558309C |
申请公布日期 |
2009.11.11 |
申请号 |
CN200580033988.0 |
申请日期 |
2005.10.05 |
申请人 |
奥林巴斯株式会社 |
发明人 |
林田刚史;谷口一德;永山茂生;肘井一也 |
分类号 |
A61B18/12(2006.01)I;A61B18/14(2006.01)I |
主分类号 |
A61B18/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 |
代理人 |
黄纶伟 |
主权项 |
1.一种高频处置装置,其特征在于,该高频处置装置具备:产生高频电流的高频发生单元;电极器,其与该高频发生单元电连接,前端具有对所述高频电流进行放电的施加电极,该施加电极的基端侧被第1绝缘材料覆盖;作为来自所述施加电极的所述高频电流的返回侧的插入部,其收纳该电极器并使该电极器能够在预定的方向上自由移动;输液单元,其通过该插入部将灌注液输送到所述施加电极附近;以及第2绝缘材料,其由能够自由变更其覆盖范围的伸缩材料形成,针对从所述第1绝缘材料的前端露出的所述施加电极的根部部分,该第2绝缘材料从该第1绝缘材料沿着该施加电极、在预定范围内覆盖该施加电极的外表面。 |
地址 |
日本东京 |