Die Erfindung betrifft eine Lithografiebelichtungseinrichtung 42 mit einer Belichtungseinrichtung 10 zum Belichten eines Substrats 20 mit lichtempfindlicher Schicht. Die Lithografiebelichtungseinrichtung umfasst eine Bewegungseinrichtung zur Erzeugung einer Relativbewegung zwischen der Belichtungseinrichtung 10 und dem Substrat 20 während der Belichtung, wobei die Belichtungseinrichtung 10 mindestens eine UV-Licht emittierende Leuchtdiode 2 aufweist.
