发明名称 衬底邻近处理结构以及使用和制造方法
摘要 一种用于产生待形成在衬底上的液体弯液面的可变形结构的邻近头,其包括:外壳体,其具有在处理侧和覆盖侧之间延伸的壁,所述壁在覆盖侧形成有开口,所述处理侧具有平表面区域,并形成有接收区开口,具有平表面区域的所述处理侧包含按第一结构的第一组分离的导管;及处理结构插头,其构造成安装在外壳体内并延伸通过覆盖侧的开口而进入接收区开口,所述处理结构插头具有由平表面区域限定的插头表面,该插头表面包含按第二结构的第二组分离的导管;其中,处理结构插头的插头表面和外壳体的处理侧限定了邻近表面,该邻近表面具有按第一结构和第二结构的第一和第二组分离的导管。
申请公布号 CN101572223A 申请公布日期 2009.11.04
申请号 CN200910138830.X 申请日期 2005.04.01
申请人 兰姆研究有限公司 发明人 C·伍德斯;M·G·R·史密斯;J·帕克斯
分类号 H01L21/00(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I;B08B5/04(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 杨松龄
主权项 1.一种用于产生待形成在衬底上的液体弯液面的可变形结构的邻近头,其包括:外壳体,其具有在处理侧和覆盖侧之间延伸的壁,所述壁在覆盖侧形成有开口,所述处理侧具有平表面区域,并形成有接收区开口,具有平表面区域的所述处理侧包含按第一结构的第一组分离的导管;及处理结构插头,其构造成安装在外壳体内并延伸通过覆盖侧的开口而进入接收区开口,所述处理结构插头具有由平表面区域限定的插头表面,该插头表面包含按第二结构的第二组分离的导管;其中,处理结构插头的插头表面和外壳体的处理侧限定了邻近表面,该邻近表面具有按第一结构和第二结构的第一和第二组分离的导管。
地址 美国加利福尼亚州