发明名称 用于形成金属导线的CMP浆料组合物
摘要 本发明公开了一种CMP浆料,其包括一种含有至少两个吡啶基基团的吡啶基化合物,并使导线上凹陷和腐蚀的发生率降到最低。
申请公布号 CN101573425A 申请公布日期 2009.11.04
申请号 CN200780048768.4 申请日期 2007.12.28
申请人 株式会社LG化学 发明人 申东穆;崔银美;曹昇范;河贤哲
分类号 C09K3/14(2006.01)I 主分类号 C09K3/14(2006.01)I
代理机构 北京北翔知识产权代理有限公司 代理人 钟守期;唐铁军
主权项 1.CMP浆料,其含有研磨剂、氧化剂、络合剂、缓蚀剂和水;其中所述缓蚀剂包含一种具有至少两个吡啶基基团的吡啶基化合物。
地址 韩国首尔