发明名称 |
磁盘装置、磁盘介质、磁头以及磁道跟踪方法 |
摘要 |
本发明涉及使磁头高精度地跟踪形成于离散介质或晶格介质上的磁道的磁盘装置、磁盘介质、磁头以及磁道跟踪方法,该磁盘装置包括:磁盘介质,其表面具有伺服专用磁道和数据专用磁道、以及进行不同于各磁道的光反射的介质主体露出的部分;以及磁头,其同时搭载有检测该磁盘介质的反射状态的光检测器、以及对数据专用磁道进行磁记录/再生处理的写入/读出元件。 |
申请公布号 |
CN101573757A |
申请公布日期 |
2009.11.04 |
申请号 |
CN200780048966.0 |
申请日期 |
2007.01.12 |
申请人 |
富士通株式会社 |
发明人 |
铃木启之 |
分类号 |
G11B21/10(2006.01)I;G11B5/60(2006.01)I |
主分类号 |
G11B21/10(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 |
代理人 |
黄纶伟 |
主权项 |
1.一种磁盘装置,其特征在于,所述磁盘装置包括:磁盘介质,其包括第一部位和进行不同于该第一部位的光反射的第二部位;磁头,其同时搭载有用于检测所述磁盘介质的反射状态的第一元件和对所述磁盘介质进行磁记录/再生处理的第二元件;以及定位单元,其根据所述第一元件检测到的所述磁盘介质的反射状态,对所述第二元件所致的针对所述磁盘介质的磁记录/再生位置进行定位。 |
地址 |
日本神奈川县 |