发明名称 PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING APPARATUS, CONTROL PROGRAM AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM
摘要
申请公布号 KR100924853(B1) 申请公布日期 2009.11.02
申请号 KR20080010337 申请日期 2008.01.31
申请人 发明人
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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