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经营范围
发明名称
CLEANING APPARATUS AND CLEANING METHOD OF SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号
KR100924881(B1)
申请公布日期
2009.11.02
申请号
KR20070042571
申请日期
2007.05.02
申请人
发明人
分类号
H01L21/304
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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