| 发明名称 |
光敏树脂组成物以及含彼之光敏乾膜 |
| 摘要 |
本发明系关于一种光敏树脂组成物，其提供具有以高度协调方式之防喷砂特性及显像特性之乾膜。一种包括酸值小于10毫克KOH/公克之含羧基之胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，该化合物每一分子具有二或多个(甲基)丙烯醯基、硷溶性聚合物化合物、光聚合引发剂及在结构中包括以式(I)代表的结构单元之可光聚合化合物(D)的光敏树脂组成物提供这种高度协调特性。本申请案主张2004年4月26日提出申请之日本专利申请案第2004－129327号为主之优先权利益，将其整个揭示内容并入本文以供参考。 |
| 申请公布号 |
TWI316644 |
申请公布日期 |
2009.11.01 |
| 申请号 |
TW094111376 |
申请日期 |
2005.04.11 |
| 申请人 |
东京应化工业股份有限公司 |
发明人 |
中里俊二;水泽龙马;带谷洋之;小野贵司;不二门勇介 |
| 分类号 |
G03F7/027;G03F7/004 |
主分类号 |
G03F7/027 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
一种光敏树脂组成物，其包含酸值小于10毫克KOH/公克之以羧基修改之胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物(A)，该化合物每一分子具有二或多个(甲基)丙烯醯基、硷溶性聚合物化合物(B)、光聚合引发剂(C)及在结构中包括以式(I)代表的结构单元之可光聚合化合物(D)：其中该以羧基修改之胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物(A)含量对该硷溶性聚合物化合物(B)含量之重量比系在1:19至19:1之范围内；该光聚合引发剂(C)以每100重量份光敏树脂组成物固体含量计在0.1至20重量份之范围内；该可光聚合化合物(D)每分子含有10至40个为范围之以式(I)代表的结构单元，于其分子末端具有乙烯系不饱和基作为可聚合取代基，且其含量相对于每100重量份以羧基修改之胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物(A)计为10至200重量份之范围内。 |
| 地址 |
日本 |
