发明名称 正型光阻组成物及光阻图型之形成方法
摘要 本发明系揭示,含有具酸解离性溶解抑制基而利用酸作用可增加硷可溶性之树脂成分(A),及曝光下会产酸之酸发生剂成分(B)的正型光阻组成物,其中树脂成分(A)为,含有羟基苯乙烯所衍生之第1构成单位(a1),及具醇性羟基之(甲基)丙烯酸酯所衍生的第2构成单位(a2),且部分构成单位(a1)之羟基及构成单位(a2)之醇性羟基受酸解离性溶解抑制基保护的共聚物(A1);酸发生剂成分(B)含有重氮甲烷系酸发生剂及鎓盐系酸发生剂;或该组成物含有至少具有一个酸解离性溶解抑制基可受(B)成分所产生之酸作用而得的有机羧酸。
申请公布号 TWI316645 申请公布日期 2009.11.01
申请号 TW093127904 申请日期 2004.09.15
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 山崎晃义;谷和夫;本池直人;前盛谕;吉泽佐智子
分类号 G03F7/039;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚
主权项 一种正型光阻组成物,其特征为,含有具酸解离性溶解抑制基而受酸作用时可增加硷可溶性之树脂成分(A),及曝光下会产酸之酸发生剂成分(B)的正型光阻组成物中,树脂成分(A)为,含有下列一般式(I)所示之羟基苯乙烯所衍生之第1构成单位(a1),(式中,R为氢原子或甲基)及具醇性羟基之(甲基)丙烯酸酯所衍生的第2构成单位(a2),其为下列一般式(II)所示至少具有1个醇性羟基之含金刚烷基的(甲基)丙烯酸酯所衍生之构成单位,(式中,R为氢原子或甲基,x为1至3之整数)且前述构成单位(a1)之羟基及前述一般式(II)所示构成单位(a2)之醇性羟基中之一部份受酸解离性溶解抑制基保护的共聚物(A1),且,受前述酸解离性溶解抑制基保护前的前述共聚物(A1)之质量平均分子量为2000以上8500以下,酸发生剂成分(B)中,所含有之重氮系酸发生剂为前述酸发生剂成分(B)中之40至95质量%,及鎓盐系酸发生剂为前述酸发生剂成分(B)中之5至60质量%。
地址 日本