发明名称 PROCEDIMIENTO DE ENSAYO NO DESTRUCTIVO DE MATERIAL DE SILICIO POLICRISTALINO DE ALTA PUREZA.
摘要 Procedimiento de ensayo exento de contaminación y no destructivo de un cuerpo moldeado de polisilicio con un diámetro de 3 mm a 300 mm y una longitud a acotar de 10 mm a 4500 mm, fabricado por medio de descomposición y deposición CVD de un gas que contiene silicio o de una mezcla gaseosa que contiene silicio en reactores Siemens, para determinar la presencia de un defecto en su material, en el que se somete el cuerpo moldeado de polisilicio a una irradiación traspasante con ondas ultrasónicas, el acoplamiento ultrasónico se efectúa por medio de agua exenta de burbujas en tecnología de chorro de agua, el agua está completamente desalada, las ondas ultrasónicas son registradas por un receptor de ultrasonidos después de circular a través del cuerpo moldeado de polisilicio y se detectan así defectos en el material de polisilicio.
申请公布号 ES2327461(T3) 申请公布日期 2009.10.29
申请号 ES20070114606T 申请日期 2007.08.20
申请人 WACKER CHEMIE AG 发明人 HEGEN, ANDREAS;SCHANTZ, MATTHAUS;LICHTENEGGER, BRUNO
分类号 G01N29/04;H01L21/66 主分类号 G01N29/04
代理机构 代理人
主权项
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