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Eine Behandlungseinrichtung für eine Textur-Ätzung von Silizium-Wafern weist eine Durchlaufbahn durch eine Behandlungskammer mit einer Ätzlösung auf sowie Transportmittel für den Transport der Substrate auf der Durchlaufbahn. Dabei weisen die Transportmittel untere Transportwalzen entlang der Durchlaufbahn auf, auf denen die Silizium-Wafer mit ihrer Unterseite aufliegen. Die Transportmittel weisen auch obere Transportrollen über den unteren Transportwalzen auf zur Anlage auf der Oberseite der Substrate, wobei die oberen Transportrollen einzelne, voneinander getrennte Einzel-Rollen nebeneinander auf einer oberen Transportwelle und mit geringem Abstand zueinander aufweisen. Eine Lagerung der Einzel-Rollen an der oberen Transportwelle weist ein radiales Spiel auf für eine Bewegbarkeit der Einzel-Rolle in radialer Richtung gegenüber der Transportwelle, also eine Anpassung an unterschiedlich dicke Substrate. Es sind auch Antriebsmittel für jede Einzel-Rolle vorgesehen.
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