发明名称 用于光刻装置的水平传感器
摘要 一种用于光刻投射装置的水平传感器,该水平传感器包括一个光源、一个第一反射器、一个第二反射器以及一个检测器,该第一反射器定位成使来自光源的光导向晶片表面,该第二反射器定位成将从晶片表面反射的光导向检测器,其中对该第一和第二反射器的参数进行选择,从而产生最小的工艺相关视在表面凹陷,所述参数包括第一和第二反射器的材料、涂层的存在、以及在存在涂层的情况下涂层在第一和第二反射器上的数量、厚度和材料。
申请公布号 CN100555086C 申请公布日期 2009.10.28
申请号 CN200410005823.X 申请日期 2004.01.13
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 P·A·A·特尼森;P·J·M·布鲁德巴克;R·M·G·J·奎恩斯
分类号 G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F9/00(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 王波波
主权项 1.一种用于光刻投射装置的水平传感器,该水平传感器包括一个光源、一个第一反射器、一个第二反射器以及一个检测器,该第一反射器定位成使来自光源的光导向晶片表面,该第二反射器定位成将从晶片表面反射的光导向检测器,其中对该第一和第二反射器的参数进行选择,从而产生最小的工艺相关视在表面凹陷,所述参数包括第一和第二反射器的材料、涂层的存在与否、以及在存在涂层的情况下涂层在第一和第二反射器上的数量、厚度和材料。
地址 荷兰维尔德霍芬