发明名称 |
用于光刻装置的水平传感器 |
摘要 |
一种用于光刻投射装置的水平传感器,该水平传感器包括一个光源、一个第一反射器、一个第二反射器以及一个检测器,该第一反射器定位成使来自光源的光导向晶片表面,该第二反射器定位成将从晶片表面反射的光导向检测器,其中对该第一和第二反射器的参数进行选择,从而产生最小的工艺相关视在表面凹陷,所述参数包括第一和第二反射器的材料、涂层的存在、以及在存在涂层的情况下涂层在第一和第二反射器上的数量、厚度和材料。 |
申请公布号 |
CN100555086C |
申请公布日期 |
2009.10.28 |
申请号 |
CN200410005823.X |
申请日期 |
2004.01.13 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
P·A·A·特尼森;P·J·M·布鲁德巴克;R·M·G·J·奎恩斯 |
分类号 |
G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F9/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
1.一种用于光刻投射装置的水平传感器,该水平传感器包括一个光源、一个第一反射器、一个第二反射器以及一个检测器,该第一反射器定位成使来自光源的光导向晶片表面,该第二反射器定位成将从晶片表面反射的光导向检测器,其中对该第一和第二反射器的参数进行选择,从而产生最小的工艺相关视在表面凹陷,所述参数包括第一和第二反射器的材料、涂层的存在与否、以及在存在涂层的情况下涂层在第一和第二反射器上的数量、厚度和材料。 |
地址 |
荷兰维尔德霍芬 |