发明名称 |
固态成像装置和电子装置的制造方法 |
摘要 |
本发明提供了固态成像装置和电子装置的制造方法。固态成像装置的制造方法包括如下步骤:在具有多个感光部分的基板上经由栅极绝缘层形成转移电极并露出感光部分;在基板上形成平坦化绝缘层以覆盖形成在基板上的转移电极;在平坦化绝缘层中形成开口,使得转移电极的每一个在预定的位置处部分地从平坦化绝缘层露出;形成配线材料层,使得开口填充有配线材料层;在配线材料层上形成抗蚀剂层;曝光和显影抗蚀剂层,使得只有在覆盖开口的预定区域中的抗蚀剂层被保留;以及采用曝光和显影的抗蚀剂层来图案化配线材料层以形成通过开口连接到转移电极的连接配线。 |
申请公布号 |
CN101567336A |
申请公布日期 |
2009.10.28 |
申请号 |
CN200910132143.7 |
申请日期 |
2009.04.21 |
申请人 |
索尼株式会社 |
发明人 |
武田健;安藤幸弘;冈本正喜;冈田雅幸;泷本香织;钉宫克尚;木村忠之 |
分类号 |
H01L21/82(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I;H01L27/146(2006.01)I;H04N5/335(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/82(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
彭久云 |
主权项 |
1、一种固态成像装置的制造方法,包括如下步骤:在具有多个感光部分的基板上经由栅极绝缘层形成转移电极并露出该感光部分;在该基板上形成平坦化绝缘层以覆盖形成在该基板上的该转移电极;在该平坦化绝缘层中形成开口,使得该转移电极的每一个在预定的位置处具有从该平坦化绝缘层露出的部分;形成配线材料层,使得开口填充有该配线材料层;在该配线材料层上形成抗蚀剂层;曝光并显影该抗蚀剂层,使得只有覆盖该开口的预定区域中的该抗蚀剂层被保留;以及采用被曝光和显影的该抗蚀剂层图案化该配线材料层,以形成通过该开口连接到该转移电极的连接配线。 |
地址 |
日本东京都 |