发明名称 具有纳米管状孔隙的工程绝缘材料的互连结构及其制造方法
摘要 一种用于形成具有纳米管状金属间绝缘材料的互连结构的方法,包括:利用固体绝缘材料构成互连结构,和通过模板印刷和刻蚀工艺形成垂直排列的纳米级孔的规则阵列,从而形成孔阵列,并随后用盖绝缘材料填补孔阵列的顶部。还描述了用于构成多级纳米管状互连结构的方法和装置的变型。
申请公布号 CN100555620C 申请公布日期 2009.10.28
申请号 CN200410083521.4 申请日期 2004.10.09
申请人 国际商业机器公司 发明人 马修·E·克尔伯恩;萨特亚·V·尼塔;萨姆帕斯·普拉斯霍萨曼;查尔斯·布莱克;凯思琳·瓜拉尼
分类号 H01L23/52(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I;H01L21/60(2006.01)I;H05K3/46(2006.01)I;H05K3/10(2006.01)I 主分类号 H01L23/52(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 付建军
主权项 1.一种互连结构,包括:第一绝缘材料,所述第一绝缘材料中嵌入一组具有顶部和底部的导电通路,并在所述第一绝缘材料的顶表面上支撑一组导电线路;和第二绝缘材料,所述第二绝缘材料设置在所述的一组导电线路之间,所述导电线路具有顶表面、底表面和垂直侧面;所述第二绝缘材料包含规则排列的纳米管状孔,所述纳米管状孔的顶部被一层第三绝缘材料层密封,所述第三绝缘材料层用于保护导电线路的所述顶表面,其中所述纳米管状孔平行于所述导电线路的所述垂直侧面,并从所述互连线路的顶部延伸到所述互连通路的顶表面之下。
地址 美国纽约