| 发明名称 | 发光设备以及与之相关的光治疗设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种发光设备(1)，其包括外壳(10)，该外壳包括光源(13)、光的发射窗口(2)、半透明层(4；7；8；19，20，21)、在整个光学窗口(2)的基本部分上延伸的可控制吸收器(18；22，23；25，30)、以及用于控制所述光源(13)和所述吸收器(18；22，23；25，30)的控制单元(15)；其中所述吸收器可被控制为在所述发光设备(1)相对于生成光具有至少50％的平均透射比的第一状态和所述发光设备(1)相对于生成光具有最多10％的平均透射比的第二状态之间。 | ||
| 申请公布号 | CN101568763A | 申请公布日期 | 2009.10.28 |
| 申请号 | CN200780046288.4 | 申请日期 | 2007.12.12 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | E·德比尔;L·J·M·施兰根;G·W·M·科克;A·M·T·P·范德普滕 |
| 分类号 | F21V14/00(2006.01)I;F21S8/00(2006.01)I | 主分类号 | F21V14/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 谢建云;刘 红 |
| 主权项 | 1.一种发光设备(1)，包括外壳(10)，该外壳包括：-用于生成光的光源(13)；-定位为允许光的发射的发射窗口(2)；-在整个所述发射窗口(2)的基本部分上延伸的半透明层(4；7；8；19，20，21)和可控制吸收器(18；22；23；25；30)；以及-用于控制所述光源(13)和所述吸收器(18；22；23；25；30)的控制单元(15)，其中所述吸收器可被控制在所述发光设备(1)相对于生成光具有至少50％的平均透射比的第一状态和所述发光设备(1)相对于生成光具有最多10％的平均透射比的第二状态之间。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||