发明名称 |
显影液成分调整方法及其显影系统 |
摘要 |
一种显影系统,包括一第一显影机台、一第二显影机台、一连通管以及一废液槽。第一显影机台包括一第一显影槽、一第一显影液循环槽、一第一废液管以及一第一废液控制阀,该第一显影槽连通该第一显影液循环槽,该第一废液管连接该第一显影液循环槽,该第一废液控制阀设于该第一废液管之上。第二显影机台包括一第二显影槽、一第二显影液循环槽、一第二废液管以及一第二废液控制阀,该第二显影槽连通该第二显影液循环槽,该第二废液管连接该第二显影液循环槽,该第二废液控制阀设于该第二废液管之上。连通管连通该第一显影液循环槽以及该第二显影液循环槽。废液槽连接该第一废液管以及该第二废液管。 |
申请公布号 |
CN100555084C |
申请公布日期 |
2009.10.28 |
申请号 |
CN200510126744.9 |
申请日期 |
2005.11.21 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 |
发明人 |
李易昌;林奇峰;徐启源 |
分类号 |
G03F7/30(2006.01)I;G03F7/26(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
魏晓刚;李晓舒 |
主权项 |
1.一种显影系统,包括:一第一显影机台,其包括一第一显影槽,用于对一第一基板上的光阻图案进行显影、一第一显影液循环槽、一第一废液管以及一第一废液控制阀,该第一显影槽连通该第一显影液循环槽,该第一废液管连接该第一显影液循环槽,该第一废液控制阀设于该第一废液管之上;一第二显影机台,其包括一第二显影槽,用于对一第二基板上的光阻图案进行显影、一第二显影液循环槽、一第二废液管以及一第二废液控制阀,该第二显影槽连通该第二显影液循环槽,该第二废液管连接该第二显影液循环槽,该第二废液控制阀设于该第二废液管之上;一连通管,连通该第一显影液循环槽以及该第二显影液循环槽;以及一废液槽,连接该第一废液管以及该第二废液管。 |
地址 |
台湾新竹市 |